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蛍光Ｘ線式膜厚計・素材分析（蛍光Ｘ線スペクトル分析法）
測定方向が下側から照射される蛍光Ｘ線膜厚測定器です。電圧とフィルターの組み合わせにより、薄い皮膜から厚い皮膜まで測定が可能です。
下から照射型のコンパクト設計の蛍光Ｘ線膜厚測定器です。宝飾品や貴金属などの品質管理や買い取り査定などの測定にも最適です。
ハンドヘルド型の蛍光X線式膜厚測定および素材分析装置です。測定対象物を移動したりすることなく現場で素早く非破壊で検査することができます。
比例計数管（PC）を搭載した蛍光Ｘ線膜厚測定器です。使いやすい卓上型で、様々なXYステージのラインナップを取り揃えております。
比例計数管（PC）タイプの蛍光Ｘ線膜厚測定器です。4種類のコリメーターと3種類のプライマリフィルターを搭載しており汎用性の高い機種となり、電子部品や半導体産業での機能性多層膜測定などにも適しています。
Ｘ線検出器に、半導体検出器（PIN）搭載の「XDAL 237」、シリコン・ドリフト検出器（SDD)搭載の「XDAL 237 SDD」をラインナップ。4種類のコリメーターと3種類のプライマリフィルターを搭載しており汎用性の高い機種です。
Ｘ線検出器にシリコンドリフト検出器（SDD）を採用した高性能な蛍光Ｘ線膜厚測定器です。電動ステージ付きで非常に薄い皮膜の測定や微量分析ができます。
新開発のデジタルパルスプロセッサー「DPP＋」を搭載！
ポリキャピラリ―レンズ（Polycapillary Optics）を搭載した蛍光Ｘ線膜厚測定器です。微小部にＸ線を集光させるためＸ線強度が強く、精度よく測定が可能です。新開発のデジタルパルスプロセッサー「DPP＋」を搭載！
ポリキャピラリーレンズ（Polycapillary Optics）を搭載し、大型プリント回路基板と部品の微細構造部分の素材分析および膜厚測定に特別設計された高性能蛍光Ｘ線膜厚測定器です。
ポリキャピラリーレンズ（Polycapillary Optics）を搭載し、ウェハーの膜厚測定と素材分析を自動測定できるよう特別設計された高性能蛍光Ｘ線式測定装置です。
サンプルとの測定距離を約12mmあるため、段差のある実装された基板の測定に適した素材分析および膜厚測定の高性能蛍光Ｘ線膜厚測定器です。 新開発のデジタルパルスプロセッサー「DPP＋」を搭載！
生産プロセスで連続的なインライン測定および分析ができる蛍光Ｘ線測定装置です。
大面積の測定エリアを持つ、生産プロセスで連続的なインライン測定および分析ができる蛍光Ｘ線測定装置です。
微小構造のウェハー測定に特別設計された完全自動化の蛍光Ｘ線測定システムです。
